核殼結(jié)構(gòu)Ag/SiO2復(fù)合納米材料的制備及性能研究

編號(hào)：NMJS04324

篇名：核殼結(jié)構(gòu)Ag/SiO2復(fù)合納米材料的制備及性能研究

作者：王超男； 方靖淮；

關(guān)鍵詞：Ag/SiO2； 核殼結(jié)構(gòu)； 復(fù)合納米材料； 表面等離子體共振； 紫外-可見吸收光譜； 表面增強(qiáng)拉曼散射；

機(jī)構(gòu)： （南通大學(xué) 理學(xué)院； 江蘇 南通 226007）；

摘要： 首先采用檸檬酸三鈉還原法制備Ag納米顆粒，然后通過正硅酸四乙酯（TEOS）的水解縮聚在其表面直接生長(zhǎng)SiO2，制備核殼結(jié)構(gòu)的Ag/SiO2復(fù)合納米顆粒。SEM-EDS分析表明，SiO2包覆層顯著改善了納米顆粒的分散性。紫外-可見吸收光譜顯示，Ag/SiO2的表面等離子體共振（SPR）吸收峰受殼層厚度的影響，并且對(duì)周圍介質(zhì)表現(xiàn)出良好的敏感性。表面增強(qiáng)拉曼散射（SERS）光譜顯示殼厚達(dá)幾十納米的Ag/SiO2仍對(duì)結(jié)晶紫的拉曼信號(hào)具有增強(qiáng)作用，表明SiO2層中存在孔洞結(jié)構(gòu)，有利于提高Ag/SiO2對(duì)周圍介質(zhì)的敏感性。