分散劑對亞微米氮化硅粉體分散性能的影響

編號：FTJS03991

篇名：分散劑對亞微米氮化硅粉體分散性能的影響

作者：梁博； 韓鳳蘭；

關鍵詞：分散劑； 亞微米； 氮化硅； 沉降行為；

機構： 北方民族大學材料科學與工程學院；

摘要： 本文利用研磨機將氮化硅(Si3N4)粉體研磨至亞微米級,并分析分散劑對Si3N4顆粒粒度的影響。從四甲基氫氧化銨(TMAH)、六偏磷酸鈉(SHMP)和Darvan-c這三種分散劑對亞微米Si3N4分散性能的曲線圖中可以看出,TMAH、SHMP和Darvan-c都有很強的抑制沉淀的作用,對亞微米Si3N4的分散效果較好。SHMP的加入量在1%時出現(xiàn)最佳值,隨著加入量的逐漸增加,亞微米Si3N4的分散效果也逐漸變差。比較這三種分散劑,0.4%的Darvan-c對亞微米Si3N4的分散效果優(yōu)于1%的SHMP和0.8%的TMAH對Si3N4的分散效果。