不同等離子體體系中納米金剛石薄膜制備的研究

編號(hào)：NMJS04144

篇名：不同等離子體體系中納米金剛石薄膜制備的研究

作者：李偉； 汪建華； 周詳

關(guān)鍵詞：納米金剛石薄膜； 微波等離子； 化學(xué)氣相沉積

機(jī)構(gòu)： 武漢工程大學(xué)湖北省等離子體化學(xué)與新材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室； 中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所

摘要： 利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)法分別在CH4/H2/Ar體系、CH4/H2/O2體系和C2H5OH/H2體系中進(jìn)行納米金剛石(NCD)薄膜的制備研究。采用原子力顯微鏡(AFM)和激光拉曼光譜(Raman)等方法對(duì)不同體系中制備得到的NCD薄膜的表面形貌及其質(zhì)量進(jìn)行了檢測(cè)。結(jié)果表明:在CH4/H2體系中添加O2對(duì)于促進(jìn)高平整度NCD薄膜的效果明顯優(yōu)于添加Ar;C2H5OH/H2體系更有利于制備顆粒更細(xì)、金剛石相含量更高的NCD薄膜。利用等離子體CVD技術(shù)的相關(guān)理論對(duì)上述結(jié)論進(jìn)行了理論分析。