Ni-SiC納米復(fù)合鍍層的制備及表征

編號(hào)：NMJS04038

篇名：Ni-SiC納米復(fù)合鍍層的制備及表征

作者：陳紹軍；

關(guān)鍵詞：Ni-SiC納米復(fù)合鍍層； 制備流程； 微觀結(jié)構(gòu)； 顯微硬度； 耐磨性；

機(jī)構(gòu)： 河源職業(yè)技術(shù)學(xué)院；

摘要： 介紹了Ni-SiC納米復(fù)合鍍層的制備流程和其中各環(huán)節(jié)的技術(shù)要點(diǎn),并借助掃描電鏡、X射線衍射儀、顯微硬度計(jì)和摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)對(duì)所制備的納米復(fù)合鍍層的微觀結(jié)構(gòu)、顯微硬度和耐磨性進(jìn)行表征。結(jié)果表明:采用優(yōu)選的鍍液配方和工藝參數(shù)組合,制備出結(jié)構(gòu)緊致、性能優(yōu)良的Ni-SiC納米復(fù)合鍍層。與Ni-SiC微米復(fù)合鍍層相比,納米復(fù)合鍍層的相結(jié)構(gòu)有所不同,出現(xiàn)(311)和(222)兩個(gè)新晶面且在(111)和(200)晶面均呈現(xiàn)出擇優(yōu)取向,同時(shí)顯微硬度和耐磨性也明顯提高。