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            超薄AAO模板法輔助生長高密度有序金納米點陣列

            編號:NMJS03935

            篇名:超薄AAO模板法輔助生長高密度有序金納米點陣列

            作者:楊 震1; 2; 張 璋1; 黃康榮1; 周青偉1; 劉利偉1;

            關(guān)鍵詞: 金納米點陣列; AAO模板; 熱蒸鍍; 二步氧化法;

            機構(gòu): (1.華南師范大學(xué)華南先進光電子研究院,先進材料研究所,廣東廣州 510006; 2.華南師范大學(xué)物理與電信工程學(xué)院,廣東廣州 510006);

            摘要: 在高真空狀態(tài)下采用孔徑為40nm的超薄陽極氧化鋁(AAO)模板作為掩膜進行金的熱蒸鍍,制備了平均粒徑為35.5nm、填充密度為1.45×1010cm-2的金納米點陣列.探索了高密度有序納米點陣列的制備工藝.通過掃描電子顯微鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)對金納米點陣列進行表面形貌表征,證明超薄 AAO模板法明顯改善了金納米點陣列分布的尺寸均勻度和有序度.

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