均勻沉淀法制備納米氧化鎂工藝研究

編號(hào)：NMJS03826

篇名：均勻沉淀法制備納米氧化鎂工藝研究

作者：高志謹(jǐn)； 秦兵杰； 馮國(guó)琳；

關(guān)鍵詞：納米氧化鎂； 粒徑； 均勻沉淀法；

機(jī)構(gòu)： 中北大學(xué)化工與環(huán)境學(xué)院； 衡水學(xué)院應(yīng)用化學(xué)系；

摘要： 以氯化鎂為原料,尿素為沉淀劑,聚乙二醇辛基苯基醚(OP-10)為表面活性劑,采用均勻沉淀法制備了納米氧化鎂�？疾炝随V離子濃度、反應(yīng)物配比、反應(yīng)溫度、煅燒溫度、煅燒時(shí)間對(duì)氧化鎂粒徑的影響。采用熱重分析儀對(duì)前驅(qū)體氫氧化鎂進(jìn)行了表征,采用X射線衍射儀和掃描電鏡對(duì)氧化鎂進(jìn)行了表征。結(jié)果表明,在鎂離子的濃度為1.5mol/L;反應(yīng)物配比為4:1;反應(yīng)溫度為110℃;煅燒溫度為500℃;煅燒時(shí)間為3h時(shí),所得氧化鎂粒徑最小,為18nm,且粒徑分布均勻,晶型為立方晶系。