占空比對高頻脈沖電沉積(Ni-Co)/納米Al_2O_3復(fù)合鍍層的影響

編號：NMJS03789

篇名：占空比對高頻脈沖電沉積(Ni-Co)/納米Al_2O_3復(fù)合鍍層的影響

作者：陳漢賓； 周靜； 吳護林； 陳曉琴； 陳東； 李忠盛； 李立；

關(guān)鍵詞：高頻脈沖電沉積； 占空比； (Ni-Co)/納米Al2O3復(fù)合鍍層； 形貌； 顯微硬度；

機構(gòu)： 中國兵器工業(yè)第五九研究所； 重慶理工大學(xué)； 總參陸航部駐成都地區(qū)軍事代表室；

摘要： 采用高頻脈沖電沉積法制備(Ni-Co)/納米Al2O3復(fù)合鍍層,研究了占空比對復(fù)合鍍層沉積速率、成分、形貌及表面顯微硬度的影響。結(jié)果表明:隨著占空比由0.3提高至0.5,復(fù)合鍍層的沉積速率增加,晶粒尺寸變大,表面變粗糙,并且Co含量降低,Ni含量增加,納米Al2O3顆粒含量變化不明顯,Co含量的降低導(dǎo)致硬度降低。