Nb-Si-N納米復(fù)合薄膜中的界面力學(xué)性能研究

編號：NMJS03783

篇名：Nb-Si-N納米復(fù)合薄膜中的界面力學(xué)性能研究

作者：劉學(xué)杰； 張富城； 姜永軍； 任元； 李智

關(guān)鍵詞：第一性原理； Nb-Si-N納米薄膜； 界面結(jié)構(gòu)； 力學(xué)性能

機(jī)構(gòu)： 內(nèi)蒙古科技大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院

摘要： 基于密度泛函理論的第一性原理方法,研究了Nb-Si-N納米復(fù)合薄膜間隙型界面結(jié)構(gòu)和置換型界面結(jié)構(gòu)的力學(xué)性能。采用第一性原理方法計算了不同應(yīng)變下的系統(tǒng)能量,通過分析得到其力學(xué)常數(shù)。計算出間隙型界面和置換型界面結(jié)構(gòu)的體積模量分別為233.595 GPa和280.204 GPa,剪切模量分別為70.716 GPa和125.677 GPa,楊氏模量分別為192.702 GPa和327.994 GPa。這表明Nb-Si-N納米復(fù)合薄膜置換型界面結(jié)構(gòu)的抗剪切形變與抗壓縮形變都優(yōu)于間隙型界面結(jié)構(gòu)。楊氏模量各向異性分析顯示,兩種界面結(jié)構(gòu)各方向彈性較為一致,NbN各方向彈性差別較大。