化學刻蝕兩步法制備硅納米線(英文)

編號：NMJS03768

篇名：化學刻蝕兩步法制備硅納米線(英文)

作者：李常青； 周婷婷； 梅欣麗； 任晨星；

關鍵詞：硅納米線； 銀輔助化學刻蝕； 掃描電子顯微鏡； 光致發(fā)光；

機構(gòu)： 鄭州大學信息工程學院； 鄭州大學材料工程學院；

摘要： 采用化學刻蝕兩步法制備硅納米線。在制作過程的不同階段,通過金相顯微鏡,掃描電子顯微鏡及透射電子顯微鏡分別對其表面形態(tài)進行觀察。結(jié)果表明,通過兩步法制作的硅納米線比傳統(tǒng)刻蝕方法制作的樣品具有更細的直徑。光致發(fā)光的測量結(jié)果表明,兩步法制備的硅納米線在可見光領域有較強的紅光發(fā)射。