毫秒激光燒蝕鎳靶高效率制備NiO納米立方體

編號：NMJS03751

篇名：毫秒激光燒蝕鎳靶高效率制備NiO納米立方體

作者：田飛； 安俊超； 曹宏梅； 郭世珍； 孫景

關鍵詞：NiO納米立方體； 激光燒蝕； 高溫高壓； 表面反應； 金屬液滴；

機構： 天津中醫(yī)藥大學中醫(yī)藥工程學院； 洛陽理工學院機電工程系； 天津大學材料科學與工程學院；

摘要： 利用長脈寬毫秒激光燒蝕浸沒在循環(huán)水中的金屬鎳靶制備了大量的氧化鎳(NiO)納米立方體,通過透射電子顯微鏡(TEM)、選區(qū)電子衍射(SAED)、X射線衍射(XRD)和能量色散譜(EDS)等手段表征了產(chǎn)物的形貌和結構.結果表明,高功率密度激光產(chǎn)生的高溫高壓條件是形成NiO納米立方體的最重要因素.激光功率密度高于104W/cm2時可以生成NiO納米立方體,當功率高于該閾值時激光首先將鎳靶燒蝕為金屬液滴,高溫的金屬液體加熱周圍液體,并由于液體的限制效應使得壓力進一步升高,最后金屬液滴與液體發(fā)生表面反應生成NiO納米立方體.