直流濺射法制備納米金的工藝及形成機制

編號：NMJS03670

篇名：直流濺射法制備納米金的工藝及形成機制

作者：竇娜娜； 王涵； 張蓓； 宋西平；

關(guān)鍵詞：濺射工藝； 納米金； 形成機制；

機構(gòu)： 北京科技大學(xué)新金屬國家重點實驗室； 北京科技大學(xué)數(shù)理學(xué)院物理系；

摘要： 利用直流濺射儀制備了納米金薄膜,并通過隨后的退火處理得到了納米金顆粒,研究了不同襯底、濺射時間、退火溫度及時間對納米金顆粒形成的影響規(guī)律。結(jié)果表明,襯底對納米金的形成有顯著的影響,形核質(zhì)點多的載玻片比單晶硅片更容易形成細(xì)小的納米金顆粒;濺射時間越短,退火溫度愈高,納米金薄膜愈容易球化;在濺射30 s、400℃保溫60 min的條件下得到了直徑為8～12 nm的金顆粒。根據(jù)金的表面能、表面張力以及金原子的擴散等因素討論了納米金顆粒的形成機制。