氧化硅基FeOOH/TiO_2納米復合膜的自組裝制備與表征

編號：NMJS03537

篇名：氧化硅基FeOOH/TiO_2納米復合膜的自組裝制備與表征

作者：周堯； 孫振亞；

關鍵詞：自組裝； TiO2； FeOOH； 納米薄膜； HRTEM；

機構： 青島科技大學自動化與電子工程學院； 武漢理工大學材料研究與測試中心；

摘要： 以氧化硅(SiO2)為基底,在其上組裝磺酸根(SO3H)為外側功能團的自組裝分子單層。以此為模板,先后采用TiCl4-HCl液相反應體系和FeNO3-HNO3液相反應體系誘導制備了FeOOH/TiO2復合薄膜。通過SEM和HRTEM對該薄膜表征,確定它們分別屬于銳鈦礦和針鐵礦(α-FeOOH)結構,并對其生長機理進行了探討。TiO2薄膜的形成與基底磺酸基團之間的相互作用有關,α-FeOOH的形成既受基底單分子層磺酸基團的調(diào)控,也受到TiO2表面鍵的化學作用,HRTEM觀察到納米銳鈦礦和針鐵礦二者可通過合適的界面如TiO2-(004)/(111)-α-FeOOH共晶生長。