納米硅/P3HT復(fù)合薄膜的制備及光學(xué)特性

編號：NMJS03493

篇名：納米硅/P3HT復(fù)合薄膜的制備及光學(xué)特性

作者：滕曉云； 孟令海； 孫宇凱； 楊紅紅； 于威；

關(guān)鍵詞：納米硅/P3HT復(fù)合薄膜； 微觀結(jié)構(gòu)； 光學(xué)特性；

機構(gòu)： 河北大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,河北省光電信息材料重點實驗室；

摘要： 采用等離子體增強化學(xué)氣相沉積技術(shù)和旋涂法相結(jié)合制備了納米硅/P3HT復(fù)合薄膜.利用Raman散射、紫外-可見吸收光譜(UV-Vis)和光致發(fā)光譜(PL)等技術(shù)對復(fù)合薄膜的微觀結(jié)構(gòu)及光學(xué)特性進行了分析.結(jié)果表明:氫流量的增加,可以有效鈍化硅中的缺陷,提高納米硅薄膜的晶化度;復(fù)合薄膜中納米硅的引入改善了P3HT在短波長范圍的吸收能力,但存在與P3HT輻射發(fā)光相競爭的過程;對復(fù)合薄膜的光致發(fā)光機制進行了分析.