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            硅烷偶聯(lián)劑KH-560改性納米二氧化硅 
            

            編號：NMJS03385
            

            篇名：硅烷偶聯(lián)劑KH-560改性納米二氧化硅 
            

            作者：劉會媛； 李德玲； 李星； 
            

            關(guān)鍵詞：納米二氧化硅； 烷偶聯(lián)劑； 接枝改性； 
            

            機(jī)構(gòu)： 唐山師范學(xué)院化學(xué)系； 
            

            摘要： 用硅烷偶聯(lián)劑KH-560對納米SiO2樣品表面進(jìn)行接枝改性研究�？疾炝思{米SiO2的用量、KH-560百分含量、改性溫度以及改性時間對改性效果的影響。采用紅外光譜、熱重分析手段對表面改性前后的納米SiO2進(jìn)行表征。納米SiO2最佳工藝改性條件:納米SiO2用量4%,KH-560百分含量2%,改性溫度90°C,改性時間6 h。 
            



            

            

            

            


            

            

            

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