Ti-B-C-N納米復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究

編號(hào)：NMJS03380

篇名：Ti-B-C-N納米復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究

作者：羅慶洪； 陸永浩； 婁艷芝；

關(guān)鍵詞：Ti-B-C-N薄膜； 磁控濺射； 微觀結(jié)構(gòu)； 力學(xué)性能；

機(jī)構(gòu)： 北京航空材料研究院； 北京科技大學(xué)材料物理與化學(xué)系；

摘要： 利用反應(yīng)磁控濺射方法在單晶硅和高速鋼(W18Cr4V)基片上制備出不同C含量Ti-B-C-N納米復(fù)合薄膜.使用X射線衍射和高分辨透射電子顯微鏡研究了Ti-B-C-N納米復(fù)合薄膜的組織和微觀結(jié)構(gòu),用納米壓痕儀測(cè)試了它們的硬度和彈性模量.結(jié)果表明,利用往真空室通入C2H2氣體的方法制備得到的Ti-B-C-N納米復(fù)合薄膜中,在所研究成分范圍內(nèi)只發(fā)現(xiàn)TiN基的納米晶.當(dāng)C2H2流量較小時(shí),C元素的加入可以促進(jìn)Ti-B-C-N薄膜的結(jié)晶,使晶粒有所增大,力學(xué)性能得到提高;當(dāng)晶粒尺寸約為6nm時(shí)(C2H2流量為2cm3/min),Ti-B-C-N薄膜的硬度、彈性模量和斷裂韌性均達(dá)到最大值,分別為35.7GPa,363.1GPa和2.46MPa·m1/2;進(jìn)一步增加C含量,薄膜力學(xué)性能將急劇降低.