不同引氟量對鈦表面電沉積含氟磷灰石晶體結(jié)構(gòu)的影響

編號：FTJS03278

篇名：不同引氟量對鈦表面電沉積含氟磷灰石晶體結(jié)構(gòu)的影響

作者：黃春鵬； 王劍； 車道闖；

關(guān)鍵詞：電沉積； 含氟磷灰石； 涂層； 鈦；

機構(gòu)： 海南口腔醫(yī)院； 四川大學口腔疾病研究國家重點實驗室；

摘要： 采用電沉積的方法在鈦表面制備含氟磷灰石涂層,通過改變電解液中引氟劑氟化鈉(NaF)的濃度,研究不同引氟量對所獲得涂層晶體結(jié)構(gòu)的影響。分別采用SEM和XRD對涂層的表面形貌和晶體參數(shù)進行分析。結(jié)果表明,通過該方法可以在鈦表面制備納米含氟磷灰石(FHA)涂層;隨著引氟量的增加,磷灰石特征衍射峰強度增強,峰型更尖銳;晶體擇優(yōu)取向逐漸發(fā)生改變,晶粒沿c軸方向垂直于電極表面擇優(yōu)生長的,表現(xiàn)為針狀和短棒狀外觀;晶格a軸常數(shù)減少,c軸常數(shù)保持不變。鈦表面電沉積FHA涂層的晶體結(jié)構(gòu)與電解液中加入NaF的濃度有關(guān)。隨引氟量增加,所得涂層的晶體直徑減小,結(jié)晶度增加。