離子束輔助沉積法制備TiAlN/TiB_2納米多層膜的研究

編號(hào)：NMJS03301

篇名：離子束輔助沉積法制備TiAlN/TiB_2納米多層膜的研究

作者：孫延?xùn)|； 顏景岳； 張帥； 董磊； 曹猛； 劉夢(mèng)寅； 李德軍；

關(guān)鍵詞：離子束輔助沉積； TiAlN/TiB2納米多層膜； 硬度；

機(jī)構(gòu)： 天津師范大學(xué)物理與電子信息學(xué)院；

摘要： 運(yùn)用離子束輔助沉積法(IBAD)制備了一系列具有不同調(diào)制比例的TiAlN/TiB2納米多層膜,利用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)和納米壓痕等表征手段研究了薄膜調(diào)制比例對(duì)其硬度、內(nèi)應(yīng)力和膜基結(jié)合力等力學(xué)性質(zhì)的影響.結(jié)果表明:隨著調(diào)制比例從8∶1變化到25∶1,多層膜的硬度在29～34 GPa之間變化,所有多層膜的硬度均高于TiAlN和TiB2兩種各體層材料通過混合法則得的結(jié)果,結(jié)合XRD結(jié)果分析認(rèn)為,TiAlN(111)擇優(yōu)取向是薄膜硬度升高的一個(gè)重要原因.