一種適用于在線檢測的納米薄膜厚度精確測量方法

編號：CSJS00072

篇名：一種適用于在線檢測的納米薄膜厚度精確測量方法

作者：姬弘楨； 鄒娟娟； 崔寶雙；

關(guān)鍵詞：薄膜； 厚度； 測量； 精確；

機構(gòu)： 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所；

摘要： 提出了一種新的薄膜厚度測量方法。該方法以鍍有一層厚度足以引起干涉的過渡層為襯底,通過測量鍍膜前后透(反)射譜的變化,即可實現(xiàn)薄膜厚度的精確測量。由于過渡層的厚度已經(jīng)引起干涉,新鍍上去的待測薄膜即使很薄,也會引起干涉的變化。通過鍍制待測薄膜前后透(反)射譜干涉的變化,可以很容易地精確測量出待測薄膜的厚度,其測量極限高達1nm以上。該方法既保持了傳統(tǒng)光譜法的所有優(yōu)勢,又可以精確測量納米超薄膜的厚度。它非常簡單、快捷,特別適用于鍍膜行業(yè)的在線檢測和實時監(jiān)控,尤其是弱吸收材料超薄膜的厚度測量。