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產(chǎn)品信息產(chǎn)品名稱：穩(wěn)定性分析儀產(chǎn)品型號(hào)：LUMiFuge產(chǎn)品介紹：LUMiFuge是一款使用STEP技術(shù)，瞬時(shí)測(cè)量光穿過(guò)整個(gè)樣品后，得到消光圖譜的分析式離心機(jī)。能夠物理加速樣品，直接且有效測(cè)試樣品穩(wěn)定性的儀器。它的特點(diǎn)是具有一個(gè)先進(jìn)的、能按照用戶需求，調(diào)整速度、光照強(qiáng)度和溫度后，進(jìn)行多樣品分析的光學(xué)系統(tǒng)。聚光裝置由高性能、不同波長(zhǎng)的特殊光源構(gòu)成。平行光從上到下透過(guò)整個(gè)樣品，哪怕是樣品*微小的變化，

• 品牌: LUM穩(wěn)定性分析儀
• 型號(hào): LUMiFuge
• 價(jià)格：電議
• 電話: 400-810-0069轉(zhuǎn)9448

穩(wěn)定性分析儀LUMiFuge®產(chǎn)品特點(diǎn)LUMiFuge®是一款高端穩(wěn)定性分析儀，可快速、簡(jiǎn)單地分類及量化分散體系的分離行為，測(cè)試其穩(wěn)定性和貨架期。LUMiFuge®是工藝優(yōu)化，質(zhì)量保證，質(zhì)量管理和過(guò)程控制等相關(guān)研究及開(kāi)發(fā)。自1998年以來(lái)，經(jīng)典版本的LUMiFuge®用來(lái)檢測(cè)產(chǎn)品在日常生產(chǎn)和加工時(shí)的質(zhì)量參數(shù)，而新一代LUMiFuge®可在產(chǎn)品研發(fā)過(guò)

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• 價(jià)格：電議

產(chǎn)品信息LUMiFuge是一款使用STEP-技術(shù)Technology瞬時(shí)測(cè)量光穿過(guò)整個(gè)樣品消失圖譜的解析離心機(jī)。LUMiFuge是一款使用STEP-技術(shù)Technology，瞬時(shí)測(cè)量光穿過(guò)整個(gè)樣品后，得到消光圖譜的分析式離心機(jī)。它世界上首款能夠物理加速樣品，直接且有效測(cè)試樣品穩(wěn)定性的儀器。它的特點(diǎn)是具有一個(gè)先進(jìn)的、能按照用戶需求，調(diào)整速度、光照強(qiáng)度和溫度后，進(jìn)行多樣品分析的光學(xué)系統(tǒng)。聚光裝置由高性

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通過(guò)高壓微射流破碎混懸劑團(tuán)聚體摘要：水難溶性藥物占新藥的比重約為90%以上，可通過(guò)制備成混懸劑等方式，以提高其溶解性。高壓微射流均質(zhì)機(jī)在高壓作用下使物料以極大流速流經(jīng)固定孔道的均質(zhì)腔，在此過(guò)程中物料受到超高剪切力、高碰撞力、空穴效應(yīng)等物理作用，可使混懸劑團(tuán)聚體達(dá)到破碎的效果，從而獲得粒徑更低，均一性更好的樣品。目的：探究高壓微射流均質(zhì)機(jī)對(duì)混懸劑團(tuán)聚體的破碎效果。方法：使用意大利PSI微射流均質(zhì)機(jī)破

摘要：近年來(lái)，MLCC （多層陶瓷電容器）在智能手機(jī)、汽車(chē)、工業(yè)等領(lǐng)域的需求快速增長(zhǎng)。陶瓷漿料是MLCC的主要原材料之一，電極通過(guò)陶瓷漿料印刷、固化而成。對(duì)于陶瓷漿料而言，配比漿料的穩(wěn)定性及漿料的均一性是影響后續(xù)流延工藝、印刷工藝、燒結(jié)工藝難度及成敗的關(guān)鍵，這些也對(duì)電極的規(guī)?；圃熘陵P(guān)重要。使用珠磨機(jī)（砂磨機(jī)）可以有效解決漿料的大小不均一及團(tuán)聚問(wèn)題，能使?jié){料均一且分散均勻。Nicomp 3000動(dòng)

均一性與穩(wěn)定性控制佐劑（Adjuvant）又稱免疫調(diào)節(jié)劑或免疫增強(qiáng)劑（Immunepotentiator），是作為疫苗的一種添加劑，當(dāng)它先于抗原或與抗原混合注入機(jī)體后，能夠增強(qiáng)機(jī)體對(duì)抗原的免疫應(yīng)答或者改變免疫反應(yīng)的類型，屬于非特異性的免疫增強(qiáng)劑，而其本身無(wú)抗原性。理想的佐劑不僅能夠增強(qiáng)免疫反應(yīng)，而且能使機(jī)體獲得最佳的保護(hù)性免疫。乳佐的均一性和穩(wěn)定性是非常重要的兩個(gè)考察項(xiàng)，而與此直接相關(guān)的是粒度的控

CMP Slurry均一性的一體化解決方案均一性與穩(wěn)定性控制化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)被譽(yù)為是當(dāng)今時(shí)代能實(shí)現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面平坦化的重要技術(shù)，CMP的效果直接影響到晶圓、芯片最終的質(zhì)量和良率1。CMP是通過(guò)表面化學(xué)作用和機(jī)械研磨相結(jié)合的技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)晶圓表面平坦化。CMP過(guò)程中將Slurry（拋光液，也稱拋光液）滴在晶圓表明，用

鉑炭催化劑漿料的一體化解決方案均一性與穩(wěn)定性控制PEMFC（Proton Exchange Membrance Fuel Cells質(zhì)子交換膜型燃料電池）在全球氫燃料電池中占有重要地位，超過(guò)80%的市場(chǎng)由此貢獻(xiàn)。PEMFC主要由膜電極組件（Membrane Electrode Assembly，MEA）和雙極板（Bipolar Plate，BPP）組成，MEA是質(zhì)子交換膜燃料電池的最核心組件，其主