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一、主要特點

1、該設備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結得更均勻;

2、可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間;

3、該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)(PECVD)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統(tǒng)，可以實現(xiàn)低壓條件下的實驗，針對低溫石墨烯、碳納米管生長等。PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象;

4、本款設備可以做金屬復合石墨烯材料，是目前**端的金屬復合材料制備設備。

二、技術參數(shù)