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            關于金相樣品的目標制備,你知道多少?

            關于金相樣品的目標制備,你知道多少?
            德國Retsch(萊馳)  2024-04-15  |  閱讀:1091

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            在材相制樣領域,大多數(shù)時候?qū)悠返闹苽湮恢貌o特定的要求——制備可以在樣品的任意高度位置進行,只要終拋效果滿足要求即可。在這種情況下,操作人員無需擔心制樣的成功率,因為有足夠的試錯機會。但還有一大類制樣是需要針對特定的點、面或區(qū)域而進行的,即目標金相制備,常見于微電子、失效分析、礦物、生物醫(yī)藥及機械制造等領域。目標制備具有位置敏感性,需要精確的材料定量磨削,因而對設備、耗材及操作人員的要求也相應提高。目標制備的典型應用場景包括以下內(nèi)容,文中我們將逐一展開。


            單個或少量樣品的特定區(qū)域制備

            制備目標為單個或少量樣品的一個或幾個特定區(qū)域,多用于實驗室失效分析或結(jié)構連接處的微觀檢查。此種情況下由于樣品的稀缺性及不可重新獲得性,對制樣位置精度及成功率的要求最高,很多技術人員習慣于手動制備以便隨時觀察位置。


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            芯片引線鍵合處的目標制備


            目標位置相同的大批量制備

            原材料或元器件、工件的生產(chǎn)批次檢測中,目標檢測位置往往相同,比如PCB 廠商對特定電鍍通孔、盲孔、埋孔等進行的切片抽檢,或機械制造商對焊點、軸承等的工藝質(zhì)量控制檢測。此時制備效率通常是最主要的考量,當然前提是精度也需要達到規(guī)定要求。


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            PCB原材料的埋孔目標制備


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            波峰焊焊點的目標制備


            特定厚度的薄片樣品制備

            在巖相及生物及醫(yī)學行業(yè),除了常規(guī)的塊體材料金相制備(光片制備)外,有時要將樣品粘接到載玻片上,切割并定量磨削成幾十微米的薄片,以便后續(xù)用透射光或偏振光進一步觀察。薄片制備對象包括礦物類樣品、魚耳石等生物類樣品以及細胞組織與血管支架界面這樣的醫(yī)療類樣品等,制樣時對樣品厚度控制及表面質(zhì)量均有一定要求。


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            巖相薄片示例


            單個樣品的等間距分層制備

            以微米級的層厚對樣品進行連續(xù)精確切片(研磨/拋光)是大體積材料三維表征技術如3D-EDS,3D-EBSD分析中重要的樣品制備方法,目前已經(jīng)在先進材料研究領域中有所應用。效率、重復性及制樣效果均是該類制樣的考慮因素,一般建議采用智能化全自動磨拋設備進行,最小去除層厚可達500nm。


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            采用自動金相拋光連續(xù)切片原理(由QATM 全自動磨拋機系統(tǒng)實現(xiàn))制樣的3D-EBSD數(shù)據(jù)重構示例


            總體說來,目標制備中,精度和效率是最為核心的因素。以往為穩(wěn)妥起見,操作人員多采用手動制備方法,制樣效果強烈地依賴于人的經(jīng)驗。隨著現(xiàn)代制樣技術的發(fā)展,金相設備的功能性、精確性及自動化程度都有大幅提升,將實驗室人員從繁重的手動制樣工作中解脫出來成為可能。


            QATM針對目標制備的不同應用提供專業(yè)細分的解決方案。行業(yè)領先的Qcut 200A精密切割機,Saphir 550自動磨拋機及全自動磨拋系統(tǒng)Qpol 250 BOT 均配備定量磨削功能,為高精度、高重復性及高效率的目標金相制備提供了有力的支撐;同時,高品質(zhì)的透明鑲嵌材料設備及研磨拋光耗材也確保了制備目標可視性和穩(wěn)定的材料去除率。




            更多關于目標制備的技術細節(jié),敬請期待。

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