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            拒絕卡脖子,凱盛CMP拋光液已通過(guò)驗(yàn)證


            來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   山林

            [導(dǎo)讀]  據(jù)凱盛科技消息,公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體封裝用高純超細(xì)球形二氧化硅樣品和 CMP 拋光液已通過(guò)國(guó)內(nèi)外客戶驗(yàn)證。

            中國(guó)粉體網(wǎng)訊  2024年12月16日消息,凱盛科技就CMP受限期間,公司量產(chǎn)的 CMP 拋光液是否可以替代進(jìn)口產(chǎn)品問(wèn)題表示,公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體封裝用高純超細(xì)球形二氧化硅樣品和 CMP 拋光液已通過(guò)國(guó)內(nèi)外客戶驗(yàn)證,形成小批量銷售。


            化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技術(shù)被譽(yù)為是當(dāng)今時(shí)代能實(shí)現(xiàn)集成電路(IC)制造中晶圓表面全局平坦化的目前唯一技術(shù),化學(xué)機(jī)械拋光的效果直接影響到芯片最終的質(zhì)量和成品率。


             

            CMP工藝  來(lái)源:何潮等,半導(dǎo)體材料CMP過(guò)程中磨料的研究進(jìn)展


            化學(xué)機(jī)械拋光通過(guò)拋光液中化學(xué)試劑的化學(xué)腐蝕和機(jī)械磨削的雙重耦合作用,在原子水平上去除表面缺陷,獲得全局平坦化表面,因此,拋光液對(duì)拋光效果起到至關(guān)重要的影響。


             

            化學(xué)機(jī)械拋光液各組分  來(lái)源:王東哲等,化學(xué)機(jī)械拋光液的研究現(xiàn)狀


            但全球CMP拋光液市場(chǎng)主要被美國(guó)和日本廠商壟斷。其中卡博特(Cabot)、Versum Materials、日立(Hitach)、富士美(Fujimi)、陶氏(Dow)等美日龍頭廠商占據(jù)全球CMP拋光液市場(chǎng)近80%市場(chǎng)份額。


            凱盛科技集團(tuán)有限公司是世界500強(qiáng)中國(guó)建材集團(tuán)以玻璃新材料為核心的科技創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)平臺(tái),凱盛科技股份是凱盛科技集團(tuán)控股的科技型上市公司,作為其“3+1”戰(zhàn)略布局中顯示材料、應(yīng)用材料的重要產(chǎn)業(yè)平臺(tái)和核心骨干企業(yè),在深圳、洛陽(yáng)、池州、太湖等地?fù)碛猩a(chǎn)研發(fā)基地,是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新示范企業(yè)。


            公司成立于2000年9月30日,公司堅(jiān)持創(chuàng)新驅(qū)動(dòng),將科技創(chuàng)新作為企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力,長(zhǎng)期保持較高投入,與玻璃新技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室等開展緊密的產(chǎn)學(xué)研合作。公司承擔(dān)建設(shè)了國(guó)家企業(yè)技術(shù)中心、省工程技術(shù)研究中心、省產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心、省博士后科研工作站等國(guó)家和省部級(jí)創(chuàng)新平臺(tái)20個(gè),建立了包括省“115”產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)、省高層次科技人才團(tuán)隊(duì)、省科技計(jì)劃項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)等高素質(zhì)人才團(tuán)隊(duì)19支,承擔(dān)省級(jí)以上重點(diǎn)項(xiàng)目19項(xiàng)。截至目前,公司累計(jì)授權(quán)專利545件,其中發(fā)明專利139件,美國(guó)發(fā)明專利1件,軟件著作權(quán)18件。獲得省級(jí)以上科技獎(jiǎng)項(xiàng)12項(xiàng)。

            來(lái)源:凱盛科技集團(tuán)有限公司官網(wǎng)


            參考來(lái)源:

            [1] 燕禾等,化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

            [2] 何潮等,半導(dǎo)體材料CMP過(guò)程中磨料的研究進(jìn)展

            [3] 嚴(yán)嘉勝等,硅晶片化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展

            [4] 王東哲等,化學(xué)機(jī)械拋光液的研究現(xiàn)狀

            [5] 前瞻產(chǎn)業(yè)研究院、證券之星、凱盛科技集團(tuán)有限公司官網(wǎng)


            (中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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