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            GMD2000納米氫氧化鎂分散機
            GMD2000納米氫氧化鎂分散機

            參考價格

            5-10萬元

            型號

            GMD2000/4

            品牌

            SGN/思峻

            產(chǎn)地

            德國

            樣本

            暫無
            上海思峻機械設(shè)備有限公司.

            會員

            |

            第9年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實

            留言詢價
            核心參數(shù)
            • 能耗:

              2.2KW
            • 處理量:

              0-1000L
            • 物料類型:

              干粉-膏體
            • 工作原理:

              立式
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            納米氫氧化鎂分散機,氫氧化鎂分散機,納米分散機,氫氧化鎂研磨分散機,納米研磨分散機

             

            氫氧化鎂是塑料、橡膠制品優(yōu)良的阻燃劑。在環(huán)保方面作為煙道氣脫硫劑,可代替燒堿和石灰作為含酸廢水的中和劑。亦用作油品添加劑,起到防腐和脫硫作用。另外,還可用于電子行業(yè)、醫(yī)藥、砂糖的精制,作保溫材料以及制造其他鎂鹽產(chǎn)品。


            (價格電議,劉經(jīng)理13681679740,QQ:428341525)

             

            在幾乎不影響使用強度的情況下顯著提高材料的阻燃、抑煙、防滴等性能,還可根據(jù)客戶需要,在納米氫氧化鎂生成同時采用適當?shù)脑桓男苑椒ǎ瑸閷S米枞細溲趸V。

               

            納米氫氧化鎂一般作為改性劑分散到某物質(zhì)當中(如橡膠),從而改性物料的特性,**的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級的粉末分散到液體介質(zhì)當中容易出現(xiàn)團聚現(xiàn)象,一般的分散設(shè)備無法解決這一難點,而SGN研磨式分散機可以很好的應對團聚的現(xiàn)象。
             

            SGN納米氫氧化鎂分散機,是由膠體磨+高剪切分散機組成,形成一體化的設(shè)備,先研磨后分散,避免物料團聚。


            GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


            GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


            **級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。


            第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。


            GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表

             

            型號

            流量

            L/H

            轉(zhuǎn)速

            rpm

            線速度

            m/s

            功率

            kw

            入/出口連接

            DN

            GMD2000/4

            300

            9000

            23

            2.2

            DN25/DN15

            GMD2000/5

            1000

            6000

            23

            7.5

            DN40/DN32

            GMD2000/10

            2000

            4200

            23

            22

            DN80/DN65

            GMD2000/20

            5000

            2850

            23

            37

            DN80/DN65

            GMD2000/30

            8000

            1420

            23

            55

            DN150/DN125

             

            納米氫氧化鎂分散機,氫氧化鎂分散機,納米分散機,氫氧化鎂研磨分散機,納米研磨分散機


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            創(chuàng)新點

            GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

            第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

            第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

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