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硅溶膠/二氧化硅拋光液品牌
川研科技產(chǎn)地
廣東樣本
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Sciyea二氧化硅拋光液主要由高純度的氧化硅微粉所組成。可避免加工時易產(chǎn)生的刮傷現(xiàn)象，適用于工件的精拋，能達(dá)到工件要求的鏡面效果，可替代同類進(jìn)口產(chǎn)品。
基本信息
適用于藍(lán)寶石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不銹鋼、鎂鋁合金、化合物半導(dǎo)體等拋光加工；
PH值穩(wěn)定基本保持不變
含量15-45（w%）
廣泛用于多種材料的納米級化學(xué)機(jī)械拋光
特性
粒徑均一（粒徑分布窄，形貌成正球狀）
拋光效率高（特殊配方，PH穩(wěn)定不變）
高平坦度（表面質(zhì)量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
循環(huán)次數(shù)多，使用壽命長
結(jié)晶速度慢，性能穩(wěn)定
產(chǎn)品詳情
| 型號 | 中心粒徑（nm） | PH值 | 應(yīng)用領(lǐng)域 |
3800 | 20-40 | 10.0 | 單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導(dǎo)體。 |
| 3801 | 60-80 | 10.0 | 藍(lán)寶石襯底、激光晶體、光學(xué)晶體、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。 |
| 3803 | 80-120 | 10.5 | 激光晶體、精密金屬、鋁合金、氧化鋁陶瓷。 |
| 3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化鋁陶瓷 |
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