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            微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型
            微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型

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            型號

            微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型

            品牌

            華宇東升

            產(chǎn)地

            四川

            樣本

            暫無
            成都華宇東升微波設(shè)備有限公司

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            微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) 

            —— C

                一款先進(jìn)的碟形腔體微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備,可應(yīng)用于單晶金剛石和多晶金剛石薄膜、類金剛石薄膜的化學(xué)氣相沉積以及材料表面處理、改性及摻雜等相關(guān)研究工作。

                   微波輸入采用下饋的方式,為腔體結(jié)構(gòu)的優(yōu)化提供了更大的空間。

             該設(shè)備可以在相對大面積的襯底上進(jìn)行單晶和多晶金剛石生長,具備平面和非平面金剛石(HDC)的生長能力。其中,單晶金剛石沉積厚度上限不低于6mm,多晶金剛石沉積厚度上限不低于500μm。


            性能特點:

            ?采用高效散熱的樣品臺

            ?產(chǎn)品沉積速率快、沉積質(zhì)量高

            ?穩(wěn)定的微波輸入

            ?**功率達(dá)到10kW

            ?能先進(jìn),安全、可靠性強(qiáng)、重現(xiàn)性好

            ?多參數(shù)實時監(jiān)測、多重聯(lián)鎖保護(hù)與報警

            ?為用戶提供沉積工藝解決方案


            主要技術(shù)參數(shù):


            微波源

            6kW10kW可選,2.45GHz

            反應(yīng)腔碟形反應(yīng)腔,可承載微波功率>10kW

            反應(yīng)腔打開方式

            揭蓋式或升降式,可選
            微波饋入方式腔體下方
            微波泄露<1mW/cm2
            極限真空度<5×10-4Pa
            真空漏率<5×10-10 Pa·L/s
            氣體質(zhì)量流量控制標(biāo)配5路,可定制
            工作氣壓0.8kPa - 40kPa
            基板臺類型水冷式基板臺
            標(biāo)準(zhǔn)襯底托65mm、75mm、85mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積
            樣品臺升降功能有,可選
            樣品臺旋轉(zhuǎn)功能

            有,可選;

            • 旋轉(zhuǎn)模式:連續(xù)轉(zhuǎn)動、間隙轉(zhuǎn)動;

            • 旋轉(zhuǎn)角度:360°;

            • 旋轉(zhuǎn)速度:0~20轉(zhuǎn)/分,可調(diào)節(jié)

            非平面(球面)金剛石樣品臺可選
            操作系統(tǒng)PLC控制系統(tǒng)
            單次連續(xù)工作時間>300h


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