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設(shè)備名稱：多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜設(shè)備

設(shè)備型號：TSU650

真空腔室結(jié)構(gòu)：立式圓柱形前開門，雙層水冷，多通用法蘭接口

真空腔室尺寸：Φ650mm×H650mm

工件架尺寸：Φ490mm，4-6 工位公 / 自轉(zhuǎn)工件架

工件架烘烤溫度：室溫～ 500±5℃，可調(diào)可控（PID 控溫）

工件架運(yùn)動方式：公轉(zhuǎn) 0-5RPM 可調(diào)

輔助離子源：偏壓、線性離子源輔助（可選）

陰極：矩形磁控靶、柱狀靶、平面弧源、磁過濾弧源（可選） 國產(chǎn)或進(jìn)口靶、或電源可選

控制方式：PLC 控制 / 工控機(jī)全自動控制可選

占地面積：主機(jī) L2800mm×W1200mm×H1950mm

總功率：≥ 60kW

選購件：基片臺加熱系統(tǒng)、循環(huán)水機(jī)、膜厚控制系統(tǒng)等