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            CVD銅基底石墨烯薄膜
            CVD銅基底石墨烯薄膜

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            型號

            CVD銅基底石墨烯薄膜

            品牌

            廣東墨睿

            產(chǎn)地

            廣東

            樣本

            暫無
            核心參數(shù)
            • 制作方法:

              -
            • 質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

              -
            • 純度:

              -
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            產(chǎn)品特點

            1、單層,晶格缺陷少,接近本征石墨烯;

            2、可見光透過率高,導(dǎo)電性良好;

            3、加工性好,可以轉(zhuǎn)移在不同的基材上。


            特征與優(yōu)勢

            CVD銅基底石墨烯薄膜的制備,采用化學(xué)氣相沉積法,將碳源高溫分解沉積在銅基底表面,形成了二維碳原子層。CVD銅基底石墨烯薄膜的單層率高,品質(zhì)優(yōu)異,可實現(xiàn)石墨烯大面積生長,且較易轉(zhuǎn)移到其它各種基材上使用。


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            產(chǎn)品質(zhì)量

            10分

            售后服務(wù)

            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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