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由于圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）可以有效的改善晶體生長(zhǎng)質(zhì)量并提高LED器件光萃取效率，已經(jīng)成為業(yè)內(nèi)LED生長(zhǎng)的主流襯底。然而，外延生長(zhǎng)及芯片制作中，無(wú)可避免會(huì)出現(xiàn)廢片現(xiàn)象。本公司利用高溫氣氛等技術(shù)手段，去除圖形襯底上生長(zhǎng)的GaN外延層，從而復(fù)活圖形襯底，使之可以重新外延生長(zhǎng)利用，為外延廠家廢片庫(kù)存問(wèn)題提供解決方案。
使用復(fù)活襯底重新外延并制備的芯片測(cè)試結(jié)果顯示，芯片質(zhì)量和使用正常PSS沒(méi)有差別，目前的成品率可以達(dá)到90%以上。對(duì)比效果見(jiàn)下表：
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