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GV10x電鏡等離子清洗器

GV10x 是由ibss Group和一個(gè)擁有**的等離子源的***共同合作開發(fā)并生產(chǎn)的新一代專門清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。GV10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運(yùn)行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳?xì)湮廴?。它能夠去除掃描電子顯微鏡(SEM)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長(zhǎng)久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。不但能夠消除掃描電子顯微鏡圖像中的黑色掃描方框，針對(duì)聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳污染同樣能得到很好的控制效果。

GV10x (KF40 version) GV10xS (CF275 version)

GV10x等離子清洗器是應(yīng)用于真空腔體中的原位清洗機(jī)的一個(gè)全新典范。憑借精妙的順流工藝，GV10x等離子清洗器比**代方法更加有效和均勻10到20倍地去除碳和碳?xì)湮廴?。分子泵也可以安全地運(yùn)行，而不需要中斷SEM， FIB或TEM系統(tǒng)的軟件控制。

通常GV10x等離子體清洗器使用空氣或氧氣產(chǎn)生氧的自由基來去除碳?xì)湮廴?。此外?/span>NIST （美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究所）研究表明，在GV10x等離子體清洗器中運(yùn)用氫氣去除沉積在多層鏡面和其它襯底以及氧化敏感的樣品上的碳沉積方面是安全和有效的。GV10x等離子體清洗器可以很容易地在幾個(gè)不同的實(shí)驗(yàn)室儀器中搬遷。每個(gè)腔的清潔周期不同。與普通的等離子清洗機(jī)不同的是: 等離子體清洗工藝(經(jīng)常被稱為遠(yuǎn)程等離子處理)并不會(huì)產(chǎn)生動(dòng)力沖擊、濺射損傷或者對(duì)樣品加熱。GV10x等離子體清洗器能迅速地清潔掃描電子顯微鏡腔內(nèi)的樣品，允許快速的假象清除，通常僅需幾分鐘的時(shí)間，而不需給電鏡腔體放氣。ibss Group的Gentle Asher和GV10x及泵的組合拓展了等離子體清洗技術(shù)的應(yīng)用，即將樣品和TEM樣品支撐桿在插入到電鏡前進(jìn)行預(yù)清洗，從而延長(zhǎng)了電鏡清洗的周期。 GV10x等離子體清洗器是一個(gè)全新的清潔腔體的典型技術(shù)。這個(gè)工藝具有更大的清潔均勻性，可以更加迅速地清除位于真空腔遠(yuǎn)角落表面上的碳污染。這些污染能不斷的吸附和重新污染腔體其它部分。由于較大的功率和壓力選擇范圍，GV10x等離子體清洗器可以被運(yùn)用到除了SEM腔體之外的清洗，比如清洗同步輻射和紫外光學(xué)，臨界尺寸掃描電鏡 (CDSEMs)，檢測(cè)性掃描電鏡和X-射線光電子能譜系統(tǒng)，這些系統(tǒng)的大型腔體都需要均勻和快速的清潔。GV10x等離子清洗器參數(shù)：功率： 5 ~99 W 連續(xù)可調(diào)等離子功率壓力：- 2 Torr ~ <5 mTorr (measured at the Source)

• 壓力（大于50 毫托），清洗氣體的平均自由程很短，在靠近等離子源的區(qū)域去除污染。

• 壓力（小于50 毫托），清洗氣體的平均自由程比較長(zhǎng)，能均勻的碳污染的清除。同時(shí)，清洗發(fā)生在分子泵能安全運(yùn)行的壓力下。

柔和：使用中性氧或氫的自由基通過非動(dòng)力學(xué)過程，灰化氣相的碳?xì)浠衔锖捅砻嫣肌?/span>