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RTM-VA全角度光譜測量臺
材料中的很多成份，以不同角度入射，得到的透射率和反射率會發(fā)生變化。通過測量不同角度入射，研究材料的*敏感角度，為進一步研究或設(shè)計測量儀器提供依據(jù)。
RTM-VA全角度光譜測量臺可以搭配光譜儀、光源及其他測量附件，可以對材料進行不同角度入射和接收的光譜測量，適用于各種表面平整的樣品光譜測量。采用電控獨立雙軸設(shè)計，高精度步進電機控制發(fā)射端和接收端的角度，角度分辨率0.05°。光譜范圍220-2500nm（可選擇不同配置），電腦軟件選擇發(fā)射端和接收端的角度，實現(xiàn)快速的光譜測量，能夠滿足透射/反射/散射/熒光/輻射等多種模式的全角度光譜測量應(yīng)用的需求。
入射端帶有一個旋轉(zhuǎn)偏振片架和一個濾波片架，可以放置一個偏振片和濾波片。接收端帶有一個濾波片架，可以放置一個濾波片、偏振片或者波片。各種波長的范圍的偏振片、濾波片和波片可供選擇。
應(yīng)用領(lǐng)域：
§光子晶體器件 §傳感器器件制備 §液晶顯示
§納米光學(xué)材料 §材料鍍膜 §角度相關(guān)材料分析
§LED光源等
主要特點：
全角度測量：發(fā)射端角度范圍0°至180°，接收端角度范圍0°至360°，可以實現(xiàn)反射、透射、散射、熒光和輻射的全角度光譜測量。
精確角度控制：高精度電機，角度精度及重復(fù)性能優(yōu)異。
多光譜測量模式：可以實現(xiàn)上反射、下反射、透射、散射/熒光、輻射等多種光譜測量。
可編程測量模式：可以通過編程，來實現(xiàn)自動多角度光譜測量。
自由測量模式：可以任意控制樣品臺的入射角、接收角，實現(xiàn)光譜測量。
可選配件多樣：根據(jù)客戶的不同測量應(yīng)用，可以選擇不同的光源、濾光片、偏振片等配件完成不同的測量應(yīng)用。
多維調(diào)節(jié)樣品臺：樣品臺由高精度三維位移臺和二維傾斜臺組成，可實現(xiàn)樣品的五維正交調(diào)節(jié)。
光譜角度測量模式
反射測量（上反射/下反射）模式 透射測量模式
散射/熒光測量模式 輻射測量模式
參數(shù)指標(biāo) | |||
參數(shù)/型號 | RTM-VA | RTM-VAS | |
光譜范圍 | 360-2500nm | 360-2500nm | |
光源 | 含鎢燈光源 | 含鎢燈光源和積分球 | |
光斑大小 | *小3mm | *小5mm | |
入射角范圍 | 0-180° | 0-180° | |
接收角范圍 | 0-360° | 0-180° | |
角度分辨率 | 0.05° | ||
測量對象 | 平面樣品、發(fā)光樣品 | 鏡面樣品、曲面樣品 | |
應(yīng)用 | 反射、透射、散射、熒光測量 | 反射率、透過率測量 | |
可選配件
紫外擴展模塊 | |
RTM-UV | 250-2500nm |
光譜儀 | |
USB2000+ | 350-1000nm |
QEPRO | 350-1100nm |
NIRQUEST | 900-2500nm |
光源 | |
DH-2000 | 220-2500nm |
偏振片 | |
PLine-UV | |
PLine-VIS-A | 400-700nm |
PLine-VIS-B | 600-1100nm |
PLine-NIR-A | 1050-1700nm |
暫無數(shù)據(jù)！
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