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阿瑞斯-μVOC空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)

高達(dá)16通道的低于ppb級濃度有機(jī)物監(jiān)測

連續(xù)監(jiān)測@ sub ppb級

醋酸、草酸、胺類、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、六甲基二硅胺烷（HMDS）、鄰苯二甲酸二辛酯（DOP）、鄰苯二甲酸二丁酯（DBP）、鄰苯二甲酸二乙酯（DEP）、異丙醇、丙酮、硼酸三甲酯、二甲苯、磷酸三乙酯---等其他有機(jī)物

空氣分子污染物 (AMC) 對于高科技生產(chǎn)過程是關(guān)鍵性因素，特別是微電子行業(yè)，有機(jī)污染物是生產(chǎn)過程中的消極因素，會導(dǎo)致高科技公司因產(chǎn)品質(zhì)量問題而產(chǎn)生的成本增加。

無空氣分子污染物生產(chǎn)是理想的生產(chǎn)目標(biāo)，通過污染物源頭控制、傳播控制，實(shí)時(shí)監(jiān)控污染物濃度并結(jié)合多級過濾器以及新風(fēng)系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)，持久監(jiān)測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩(wěn)定生產(chǎn)、預(yù)防過濾器突發(fā)性壽命減少等。

uVOC-CAM提供給客戶一個(gè)實(shí)時(shí)快捷持續(xù)的在線空氣分子污染物AMC監(jiān)測方案，不需要采樣，離線測量。

檢測限達(dá)到sub-ppb級

潔凈室環(huán)境中的空氣分子污染物AMC，內(nèi)部來自建筑材料釋出、設(shè)備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學(xué)藥品逸散、人員產(chǎn)生、管路泄露、設(shè)備維護(hù)修理時(shí)散發(fā)等，外部來自環(huán)境空氣中存在的氣相污染物，以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

一旦AMC空氣分子污染物超標(biāo)會引起一系列嚴(yán)重后果，比如晶圓廢棄、停產(chǎn)、重新凈化潔凈室等。

空氣分子污染物問題:從潔凈間到生產(chǎn)機(jī)臺加工

隨著IC產(chǎn)品生產(chǎn)成本的增加，空氣分子污染物AMC的監(jiān)測變得越來越重要。

污染物從加工到超凈間的擴(kuò)散，并且成份的增加，分子污染物來自多個(gè)源頭，比如生產(chǎn)化學(xué)藥劑、建筑材料、潔凈間設(shè)備裝置、操作人員等。

μ-VOC 系統(tǒng)意味著潛在鑒別空氣分子污染物與產(chǎn)生污染問題和減少污染問題之間的關(guān)聯(lián)，完整的全量程全組份實(shí)時(shí)sub-ppb級測量，提供早期AMC監(jiān)測和快速確定這些污染問題的原因。

亮點(diǎn)

一般特點(diǎn)

在線連續(xù)質(zhì)量監(jiān)測全部自動(dòng)化系統(tǒng)

低濃度VOC監(jiān)測

獨(dú)立分開測量有機(jī)物成份

Sub-ppb檢測限

集成計(jì)算機(jī)和控制軟件以及數(shù)據(jù)采集與處理功能

應(yīng)用

潔凈間污染物監(jiān)測

過濾器狀態(tài)監(jiān)測

加工過程全組份測量診斷污染物

通過成份形成跟蹤污染物源頭

許多生產(chǎn)過程化學(xué)藥劑成為污染物的源頭，NH3因光刻工藝過程而*為**。六甲基二硅胺烷（HMDS）又分解成三甲基硅醇和NH3，等等很多類似的化學(xué)藥劑的分解與釋放，都造成AMC的增加。而實(shí)時(shí)迅速測量這些成份濃度的μ-VOC 系統(tǒng)可以跟蹤污染物形成的時(shí)間和路線。

工作原理

GC氣相色譜是分離多種復(fù)雜混合物常用的技術(shù)，這種技術(shù)依賴于揮發(fā)性有機(jī)混合氣體在色譜柱的多組份分離。

當(dāng)不同的揮發(fā)性有機(jī)物從色譜柱分離出來后通過氫氣/空氣火焰離子檢測器探測電導(dǎo)率的變化，從而確定不同組份的濃度，獨(dú)特的吹掃和載氣系統(tǒng)可使儀器達(dá)到sub-ppb檢測限。

特性:

可測組份