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為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導(dǎo)電的金屬或碳涂層，之前從未有過比與Leica EM ACE200涂層系統(tǒng)更方便的設(shè)備了。 配置為濺射鍍膜機(jī)或碳絲蒸發(fā)鍍膜機(jī)后，可以在全自動(dòng)化系統(tǒng)中獲得完全可重復(fù)的結(jié)果，實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺(tái)儀器中提供可互換機(jī)頭的組合儀表。 各個(gè)選項(xiàng)，如石英晶體測量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺(tái)低真空鍍膜機(jī)

技術(shù)參數(shù)：

1、適用于常規(guī)SEM/TEM/DEX噴涂要求

2、可選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)模式、或雙模式、可選揮發(fā)放電功能

3、方向型離子濺射模式，可提高平面樣品鍍膜效果，獨(dú)特的脈沖式碳絲蒸發(fā)模式，實(shí)現(xiàn)對碳膜厚度的控制

4、可選配石英膜厚監(jiān)控器，可程序化控制膜厚，并反饋鍍膜儀，精度為0.1nm

5、標(biāo)配有鍍膜金屬擋板，可用于干預(yù)濺射，確保鍍膜純度

6、**設(shè)計(jì)方形樣品室，尺寸：140mm寬x145mm深x150mm高，樣品臺(tái)直徑80mm

7、工作距離：30-100mm

8、濺射電流：≤150mA

9、極限真空度：≤7x10-3mbar

10、一體化觸摸控制界面，操作簡單