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立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式帶有兩種研磨配置:斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計,減少了橫截面研磨時間。(**加工率:硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸樣品臺裝置:
為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣,可將樣品臺裝置拆卸。
特點 |
· 混合模式:兩種研磨配置斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性 · · 高效:提高加工效率與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計,減少了橫截面研磨時間(**加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%) · · 可拆卸式樣品臺:為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨,樣品臺設(shè)計為可拆卸型 · |
暫無數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價比