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            Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術微納3D打印設備
            Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術微納3D打印設備

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            暫無
            nanoscribe

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            基于雙光子灰度光刻原理無掩模微納3D打印

            - 適合于制造微光學衍射以及折射元件

            Quantum X新型超高速無掩模光刻技術的核心是Nanoscribe****的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性**結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。

            Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點

            這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到精準同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

            技術參數(shù)

            產地:德國全進口

            打印技術:雙光子灰度光刻 (2GL)

            三維橫向特征尺度:160nm

            **分辨率:400nm

            *小表面粗糙度:≤10nm

            激光掃描速度:≤250mm/s

            關鍵特性

            高速的2.5維微納制造

            光學質量表面和極好的形狀精度

            亞微米級別加工滿足設計自由

            超快調整控制打印體素大小,優(yōu)化打印過程

            自動化的打印流程,例如校正、打印和實時

            監(jiān)控 廣泛的基板-樹脂組合選擇

            按任務順序連續(xù)進行打印

            可觸摸屏和遠程電腦操控

            納糯三維科技(上海)有限公司作為德國Nanoscribe獨資子公司擴大了亞太地區(qū)業(yè)務范圍,同時也加強了售后服務支持。

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            售后服務

            10分

            易用性

            10分

            性價比

            10分
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