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            PHL膜厚測(cè)量橢偏儀ME-210(-T)
            PHL膜厚測(cè)量橢偏儀ME-210(-T)

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            產(chǎn)地

            日本

            樣本

            暫無(wú)
            深圳菱光社貿(mào)易有限公司

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            第2年

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            以往的橢偏儀是單點(diǎn)測(cè)試,因此要取得整面膜厚均勻性數(shù)據(jù)是需要N個(gè)小時(shí)的工作,而且*小的測(cè)量分辨率就是激光光斑大小,也就是說(shuō),無(wú)法取得微小區(qū)域的膜厚分布數(shù)據(jù)。

            ME-210是采用獨(dú)自開(kāi)發(fā)的微小偏光陣列片來(lái)克服上述兩大問(wèn)題的設(shè)備。

            ME-210能做的就是:

            1. 能以快速取得**12inch基板上的膜厚分布

            2. 能以高分辨率取得微小區(qū)域的膜厚分布(設(shè)備**分辨率為5.5um*5.5um

            3. 設(shè)備軟件具有模擬功能,因此能比對(duì)模擬值與實(shí)際值來(lái)評(píng)估成膜工藝

            4. 透明基板的膜厚測(cè)量

            技術(shù)參數(shù):

            光源--typ,636nm,Class2

            設(shè)備**分辨率--5.5*5.5um

            入射角--70°

            測(cè)量再現(xiàn)性--膜厚0.1nm、折射率0.001

            設(shè)備*塊測(cè)量速度--5,000個(gè)點(diǎn)/min

            載物臺(tái)--標(biāo)準(zhǔn)φ8inch、選配φ12inch

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            10分

            性價(jià)比

            10分
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