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以往的橢偏儀是單點(diǎn)測(cè)試，因此要取得整面膜厚均勻性數(shù)據(jù)是需要N個(gè)小時(shí)的工作，而且*小的測(cè)量分辨率就是激光光斑大小，也就是說，無法取得微小區(qū)域的膜厚分布數(shù)據(jù)。
ME-210是采用獨(dú)自開發(fā)的微小偏光陣列片來克服上述兩大問題的設(shè)備。
ME-210能做的就是：
能以快速取得**12inch基板上的膜厚分布
能以高分辨率取得微小區(qū)域的膜厚分布（設(shè)備**分辨率為5.5um*5.5um）
設(shè)備軟件具有模擬功能，因此能比對(duì)模擬值與實(shí)際值來評(píng)估成膜工藝
透明基板的膜厚測(cè)量
技術(shù)參數(shù)：
光源--typ，636nm，Class2
設(shè)備**分辨率--5.5*5.5um
入射角--70°
測(cè)量再現(xiàn)性--膜厚0.1nm、折射率0.001
設(shè)備*塊測(cè)量速度--5，000個(gè)點(diǎn)/min
載物臺(tái)--標(biāo)準(zhǔn)φ8inch、選配φ12inch
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