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Praying Mantis™高溫反應(yīng)室對(duì)于具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射成為研究異構(gòu)催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制的寶貴工具。此高溫反應(yīng)室非常適合在嚴(yán)格控制的溫度和壓力下進(jìn)行此類研究。高溫反應(yīng)室應(yīng)用允許在受控壓力和廣泛溫度下進(jìn)行漫反射 (DRIFTS) 光譜測(cè)量。它與FT-IR和UV-VIS漫反射光譜的Praying Mantis配件一起使用，也可用于拉曼光譜。
設(shè)計(jì)用于使用 KBr 窗口的高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa(1 ktorr)或帶 ZnSe 窗口的 1.5 MPa(11.3 ktorr)的操作。
溫度高達(dá) 910°C(真空下)。
易于適應(yīng)操作高達(dá) 3.44MPa (25.8 ktorr) 與可選的高壓圓頂。
提供三個(gè)入口/出口口，用于疏散電池和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。
可選的 Silcotek/Restek 惰性涂層，具有更高的惰性和耐腐蝕性。
可選的冷卻盒，可使用冷水機(jī)組或再循環(huán)器進(jìn)行適度冷卻或加熱。
適用于微光譜應(yīng)用(包括拉曼)的替代窗口組件。
美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室
美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室主要應(yīng)用：在壓力和溫度控制范圍內(nèi)，允許漫反射測(cè)試，必須配套Praying Mantis漫反射附件
美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室兩種模式可選：
1、高溫反應(yīng)室(HVC)：操作壓力從真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作溫度可高達(dá)910℃ (在真空條件下)。可選配高壓穹頂加壓至3.44MPa(25.8 ktorr)。
2、低溫反應(yīng)室(CHC-CHA)：操作壓力從真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作溫度從-150℃至600℃ (在真空條件下)。
美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室主要特點(diǎn)：
左右兩個(gè)進(jìn)/出氣口，中間一個(gè)抽真空口
316不銹鋼耐化學(xué)腐蝕
反應(yīng)室。
低壓加熱盒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶兩個(gè) KBr 或 ZnSe 窗口和一個(gè)玻璃觀察窗口(FTIR 配置)的圓頂。
帶兩個(gè) SiO2 窗口和一個(gè)玻璃觀察窗(UV-Vis-NIR 配置)的圓頂。
主要型號(hào)#
| MODEL NO. | NAME | |
|---|---|---|
| HVC-DRM-5 | Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (FTIR， ZnSe) | |
| HVC-DRP-5 | Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (FTIR， KBr) | |
| HVC-VUV-5 | Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (UV-Vis-NIR) |
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