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技術參數：

HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(Process Gas Analyser)，適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。

應用：

· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD

· 真空涂覆/ 等離子刻蝕

· 沉積濺射

· 污染物研究

· 基本壓力辨別

· 泄漏探測/ 實質泄漏/脫附分析

· 除氣/烘烤/泵效能

· 反應室/過程氣體污染物

特點：

· 簡潔的桌上型，移動推車或控制臺架結構

· Direct re-entrant流孔板，差式泵，以達到*適宜的靈敏度

· 連續(xù)取樣從10^-4mbar至1mbar.

· 高靈敏度（**可至5ppb），質量數可選至1000amu

· 軟離子化技術，分析復雜有機物，或表觀MS研究

· 穩(wěn)定性好(24h之上，峰高變化小于±0.5%)

· MASsoft軟件控制，或由局域網進行多個系統(tǒng)控制

· 氣動閥自動控制；出現電力不足或壓力過大等不安全狀況時可啟用手動隔離裝置

· 自動、同時數據取得、分析，實時顯示、報警