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儀器簡介：

國產(chǎn)PDC系列等離子清洗（處理）機是一種表面處理設(shè)備， 用氣體作為處理介質(zhì)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對固體樣品表面進行相互作用，引起分子結(jié)構(gòu)改變，從而對樣品表面的有機污染物進行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對環(huán)境和樣品帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵，工作時氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面，短時間就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗能力達到分子級。等離子清洗器可對樣品的表面改性，加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也可對樣品消毒和殺菌。

國產(chǎn)PDC系列等離子清洗機是針對國外等離子清洗器價格貴，難以推廣等缺點，吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機的優(yōu)點，結(jié)合中國用戶的需求和使用習(xí)慣，利用現(xiàn)代先進的科技手段而開發(fā)生產(chǎn)出的新型系列等離子清洗機。它除具有一般等離子清洗機的優(yōu)點外，更具有性價比高，使用成本低，特別易于維護的優(yōu)點，而且可選性極強，可以滿足各種用戶不同使用目的對設(shè)備的特殊需求。清洗艙的材料有耐熱玻璃、不銹鋼可選；不銹鋼清洗艙有圓形、方形可選；清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實際需要制定；清洗艙中工裝支架可根據(jù)用戶清洗件的尺寸量身定做。

技術(shù)參數(shù)：

型號規(guī)格：PDC－MG

1.整機規(guī)格：500×300×300（長×寬×高）mm

2.整機重量：35 Kg

3.清洗艙規(guī)格：Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)

4.清洗艙有效容積：4.5 L

5.輸入電源：220 V／50 Hz

6.整機輸入功率：400 W

7.射頻輸出：0～150 W（連續(xù)可調(diào)）8.射頻頻率：13.56 MHz

9.數(shù)字式定時器范圍：0～99.99 min

10.極限真空度：60 Pa

11.二路浮子流量計：0.2~1.5L/min量程，方便二種氣體按比例混合

12.觀察窗：觀察清洗倉內(nèi)輝光狀態(tài)

13.常用工作氣體：空氣、氬氣、氮氣或混合氣體

型號規(guī)格：PDC－BGS

整機規(guī)格：600×550×1280（長×寬×高）mm

整機重量：120 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格：Φ240×L340 mm (耐熱玻璃)

反應(yīng)艙有效容積：15 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機輸入功率：2000 W（含真空泵）

射頻功率：0～400Ｗ（連續(xù)可調(diào)）

射頻頻率：13.56 MHz

數(shù)字定時器：0～99.99 min

極限真空度：50 Pa

二路浮子流量計：0.2～1.5 L／min 量程，方便二種氣體按比例混合

觀察窗： 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體： 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

型號規(guī)格：PDC－BGM

整機規(guī)格：600×600×1400（長×寬×高）mm

整機重量：300 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格：380×380×380（長×寬×高）mm(不銹鋼)

反應(yīng)艙有效容積：50 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機輸入功率：2000 W（含真空泵）

射頻功率：0～400Ｗ（連續(xù)可調(diào)）

射頻頻率：13.56 Hz

數(shù)字定時器：0～99.99 min

極限真空度： 50 Pa

浮子流量計： 0.1～1.6 L／min 量程

觀察窗： 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體： 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

型號規(guī)格：PDC－BGL

整機規(guī)格：750×780×1660（長×寬×高）mm

整機重量：400 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格：600×470×470（長×寬×高）mm(不銹鋼)

反應(yīng)艙有效容積：110 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機輸入功率：2500 W（含真空泵）

射頻功率：0～1000Ｗ（連續(xù)可調(diào)）

射頻頻率：13.56 MHz

數(shù)字定時器：0～99.99 min

極限真空度： 50 Pa

浮子流量計： 0.1～1.6 L／min 量程

觀察窗： 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體： 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

可根據(jù)用戶需要設(shè)計制作國產(chǎn)專用等離子清洗及處理設(shè)備。

主要特點：

整機一體化、結(jié)構(gòu)緊湊、安裝方便。

常溫條件下對樣品進行非破壞性超清洗。

徹底清除樣品表面的有機污染物。

氣體清洗介質(zhì)使樣品清洗后無二次污染。

設(shè)備操作簡單方便，使用成本極低，易于維護。

具有表面清洗、表面活化、表面刻蝕和表面沉積的功能。

應(yīng)用領(lǐng)域：

LED、LCD、PCB、觸電子生產(chǎn)領(lǐng)域中的超清洗。

移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。

清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝殛粘和。

涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增強

表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。