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設(shè)備規(guī)格

襯底尺寸：標(biāo)準(zhǔn)尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)
工藝溫度：溫度范圍：RT~500°C （可定制）
前驅(qū)體路數(shù)：**支持6路前驅(qū)體氣路（可定制)，包含固、液態(tài)前驅(qū)體源瓶

加熱系統(tǒng)：可加熱溫度范圍：RT~150℃

反應(yīng)物路數(shù)：支持2路反應(yīng)物氣路（可定制）
載氣：標(biāo)準(zhǔn)：N2, MFC 流量控制（可定制）
壓力監(jiān)測(cè)：雙薄膜規(guī)組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統(tǒng)：標(biāo)準(zhǔn)油泵

控制系統(tǒng)：19寸顯示器，支持觸控工業(yè)級(jí)嵌入式工控機(jī)，高可靠性，支持?jǐn)U展
操作系統(tǒng)：Win7 操作系統(tǒng)工業(yè)級(jí)可編程邏輯控制器，支持現(xiàn)場(chǎng)總線與實(shí)時(shí)多任務(wù)處理操作

高溫加熱模塊：獨(dú)立的源瓶加熱模塊，可支持RT~200℃

預(yù)留模塊：預(yù)留等離子體系統(tǒng)接口，無(wú)需更換腔體即可直接升級(jí)至等離子體系統(tǒng)（PEALD），實(shí)現(xiàn)Thermal-ALD與PEALD的雙模式切換

工藝

可沉積薄膜種類(lèi)和應(yīng)用場(chǎng)景包括：
? High-K介電材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
? 金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu) (Cu, WN, TaN, Ru, In);
? 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
? 生物醫(yī)學(xué)涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
?金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
? 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);
? 透明電學(xué)導(dǎo)體 (ZnO:Al, ITO);
? 光子晶體(ZnO, Ti02, Ta3N5);等

機(jī)架Cabinet

?框架采用進(jìn)口鋁材搭建，重量輕、承載能力強(qiáng)，散熱性好

?外殼采用碳鋼烤漆及圓角處理，輕便美觀，拆卸方便，符合人體工學(xué)

?顯示屏360度自由旋轉(zhuǎn)，可調(diào)視距、視角、自由懸停

控制系統(tǒng)

? 控制系統(tǒng)采用 PLC+工控機(jī)+19 寸觸摸屏方式實(shí)現(xiàn)，系統(tǒng)通過(guò)高速以太網(wǎng)進(jìn)行通訊。

? 采用 PLC 對(duì)設(shè)備進(jìn)行實(shí)時(shí)控制，同時(shí)實(shí)現(xiàn)基于Windows7 操作系統(tǒng)的人機(jī)界面互動(dòng)，支持歷史數(shù)據(jù)、工藝配方、報(bào)警及日志的儲(chǔ)存和導(dǎo)入導(dǎo)出的功能

? 設(shè)備支持“一鍵沉積”功能，點(diǎn)擊運(yùn)行按鍵即可自動(dòng)完成真空抽取、升溫、材料沉積、降溫等一系列步驟。實(shí)現(xiàn)單一或多層材料的沉積；提供獨(dú)立的手動(dòng)操作頁(yè)面，支持手動(dòng)開(kāi)關(guān)閥門(mén)的操作，人機(jī)交互同時(shí)支持鼠標(biāo)、鍵盤(pán)和觸摸的輸入方式

? 設(shè)備運(yùn)行軟件提供用戶權(quán)限管理功能，可根據(jù)用戶級(jí)別設(shè)定使用權(quán)限，防止誤操作，保證設(shè)備和人身安全

? 設(shè)備運(yùn)行軟件提供邏輯互鎖功能，防止用戶誤操作，并彈出信息對(duì)話框進(jìn)行提示

? 設(shè)備運(yùn)行軟件集成安全及參數(shù)配置、IO互鎖列表信息功能

真空系統(tǒng)

· 真空測(cè)量采用雙真空壓力計(jì)組合方式，工藝數(shù)據(jù)更真實(shí)，更迅速，更精確，為工藝人員提供井真的數(shù)據(jù)采集來(lái)源，為工藝的可重復(fù)性提供了可靠的保障