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參考價格
面議型號
PGS/PGM 200品牌
HORIBA產(chǎn)地
上海樣本
暫無誤差率：
-分辨率：
0.5nm重現(xiàn)性：
-儀器原理：
其他分散方式：
-測量時間：
-測量范圍：
4-16.5nm (75-310eV) 或 4-26nm (47-310eV)看了HORIBA真空紫外光譜儀PGS/PGM 200的用戶又看了
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產(chǎn)品簡介
PGS/PGM 200光譜儀憑借優(yōu)異的消像差設計，可實現(xiàn)一機兩用，配合單通道探測器作為單色儀，配合CCD使用作為攝譜儀。光路由一片平面光柵和一片超環(huán)面鏡組成，為紫外光譜分析優(yōu)化設計。掠入射光路設計將可探測波長拓展到4nm，與此同時，攝譜儀模式下焦平面垂直于出射光軸，使CCD上接受的光通量大化。
技術(shù)特點
HJY的消像差平面光柵結(jié)合超環(huán)面鏡，同時兼顧高分辨率和低像差。
在軸設計，光路易準直。
出射光直射CCD表面，光通量大。
只需更換出射狹縫和法蘭，即可實現(xiàn)單色儀和攝譜儀之間的切換，一機兩用。
支持超高真空10-9mbar，可接入同步輻射裝置。
典型應用
X射線光電子能譜
等離子體物理研究
高次諧波濾波
紫外反射
EUV光源表征
技術(shù)指標
三塊標準光柵可選 | |
54401010 | 1800 gr/mm 光柵，攝譜儀模式下 光譜范圍：4-16.5nm (75-310eV) 或 4-26nm (47-310eV) 出射端口色散：0.4-0.68nm/mm 分辨率：0.2nm |
54402010 | 800 gr/mm光柵，攝譜儀模式下 光譜范圍：10-35 nm (35–124eV) 或10-56nm (22-124eV) 出射端口色散：1.0 – 1.14m/mm 分辨率：0.3nm |
54406010 | 450 gr/mm光柵，攝譜儀模式下 光譜范圍：16-65 nm (7–80eV) 或 16-103nm (12-77eV) 出射端口色散：1.7–2.7m/mm 分辨率：0.5nm |
光學設計 | HJY平面光柵加超環(huán)面鏡光路設計 |
焦長 | 200 mm |
孔徑 | f/17 |
分辨率 | 低至0.2nm |
波長驅(qū)動 | 步進電機 |
高真空 | 10-6 mbar |
真空泵法蘭 | DN63 LF |
狹縫 | 測微狹縫 |
陣列探測器法蘭 | DN100CF/ICF152 |
可選項 | |
狹縫 | 自動或固定 |
超高真空 | 10-9 mbar，配備DN100CF真空泵法蘭和DN40CF真空計接口 |
暫無數(shù)據(jù)！
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