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Nano-inXider：針對納米材料表征的綜合解決方案

得益于Xeuss 2.0的研發(fā)，Nano-inXider采用了垂直光路系統(tǒng)，緊湊易用的設計使得它可適應任意實驗室環(huán)境。

高性能

Nano-inxider繼承了Xeuss 2.0的優(yōu)點：

1. 獨特的純凈光技術，具有****的測試性能；

2. 測試環(huán)境的全真空內(nèi)腔設計；

3. 集成新一代Dectris的混合像素探測器。

易用

Nano-inXider具有超大的樣品腔，以方便對樣品進行操作。所有樣品架都配備了通用的快速接口，在樣品環(huán)境變換時無需對樣品位置進行調(diào)整。強大的控制軟件，僅需輕點幾次鼠標，即可對光路和系統(tǒng)設定進行快速自動調(diào)節(jié)，可確保系統(tǒng)永遠在*適合實驗要求的狀態(tài)下工作。

緊湊的設計

 如同常見的電子顯微鏡等分析工具一樣，Nano-inXider具有垂直設計的架構。垂直設計的架構集成了所有的配件，Nano-inXider成為市場上占地面積很小的X射線散射設備，占地面積小于1m²。

Nano-inXider配備了多種樣品架，包括固體、粉末、液體、凝膠等。亦可在不同狀態(tài)下進行測試，例如拉伸、溫度、濕度以及剪切。Nano-inXider還可裝配液體樣品自動進樣器，來對樣品進行批量測試。

功能強大、易用的軟件套裝

Nano-inXider配備了集數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和數(shù)據(jù)分析于一體的軟件系統(tǒng)。強大的數(shù)據(jù)采集軟件，只需輕點鼠標，即可設置所有采集參數(shù)，控制多個樣品的連續(xù)測試，實現(xiàn)設備使用效率的**化。數(shù)據(jù)處理和分析軟件操作簡單易用，并且包含結構參數(shù)數(shù)據(jù)庫?？赏ㄟ^圖形化界面快速地將Nano-inXider采集的數(shù)據(jù)轉換為更強大的數(shù)據(jù)分析軟件所使用的標準文件，例如ATSAS和SASfit。

主要優(yōu)點&特點：

1、直接從樣品到結果
通過Nano-inXider智能化的設計，只需將您的樣品放置在樣品倉里即可。然后就能得到結果。過程非常簡單快捷。

樣品
操作簡單。只需將您的樣品放置在樣品倉里即可。儀器可進行自動校準，無需用戶干預。

測試
自動快捷的數(shù)據(jù)采集流程。X射線散射數(shù)據(jù)自動歸一化，無需用戶校準。這是通過一個嵌入到全自動設備中的強大軟件套件，以及獨特的固定雙探測器配置來實現(xiàn)的。

分析
儀器實時顯示的精確散射數(shù)據(jù)可用于進行實時快速的樣品反饋，或使用我們的XSACT軟件進行進一步的輔助分析。分析功能選擇廣泛，只需點擊幾次就能快速獲得納米結構參數(shù)。

報告
XSACT生成的高質量可發(fā)表的圖表，可以通過拖放或保存文件輕松地導出到其他文檔。

節(jié)約時間
Nano-inXider能更快獲取結果更簡單地進行數(shù)據(jù)分析
簡單易用。智能化的設計可以使研究小角散射的學者，研究材料科學的科學家及技術人員快速掌握。
具有完全的遠程操作能力和自動校準，Nano-inXider將人為誤差降到*低，并保證重現(xiàn)性和測量可追溯性。
是開放操作實驗室的理想選擇。

+ Nano-inXider全自動工作流程
Nano-inXider數(shù)據(jù)采集軟件具有以下用戶友好的互動界面:
- 在采集過程中實時查看2D和1D數(shù)據(jù)
- 自動校準
- 可追溯測試過程

無需任何用戶干預，自動工作流程可以進行以下所有數(shù)據(jù)處理
- 從2D圖像到1D曲線的數(shù)據(jù)還原
- **強度歸一化
- 自動降低宇宙背景來減少寄生散射的影響

+ XSACT分析軟件
XSACT：X射線散射分析和計算工具
- 智能工作流程和用戶體驗
- 強大的數(shù)據(jù)分析算法組成
- 高質量可直接發(fā)表數(shù)據(jù)圖

2、高精度高動態(tài)范圍測量
獲取可信賴的數(shù)據(jù)，將您的注意力集中在科學和數(shù)據(jù)解釋上。
Nano-inXider可以通過測量透過樣品的強直通光和樣品的低散射強度信號來獲得高信噪比數(shù)據(jù)。
通過先進的無beamstop數(shù)據(jù)采集進行直通光測量，自動處理數(shù)據(jù)并獲得準確度高的**強度。純凈光技術可以實現(xiàn)同時檢測低強度信號和高強度信號。
強度采集的高動態(tài)范圍直接影響數(shù)據(jù)質量：
- 能夠檢測弱散射樣品的低強度散射信號
- 定量獲得粒子數(shù)、摩爾質量、濃度、比表面積等參數(shù)
- 探測大特征尺寸，無需用戶進行數(shù)據(jù)處理

+ 純凈光技術適用于高動態(tài)范圍測量
Nano-inXider通過在先進組件和儀器設計上長達15年的研發(fā)，達到了在樣品上高X射線通量與儀器產(chǎn)生的低寄生散射的**平衡。
純凈光技術具有以下主要組件和特點：
- 微聚焦密封管光源(30W)與單次反射多層膜聚焦鏡結合
- 自動無散射準直技術
- 儀器從聚焦鏡到探測器傳感層全部在真空環(huán)境中
- 高效低噪聲混合像素光子計數(shù)探測器
- 無窗口膜的SAXS探測器

+ 無beamstop采集可得到高質量數(shù)據(jù)
Nano-inXider無需任何beamstop就可以進行SAXS測量，還可以同時采集透過樣品的直通光和非常低強度散射信號。
通過先進的無beamstop數(shù)據(jù)采集可實現(xiàn)高動態(tài)范圍的數(shù)據(jù)收集。
在整個的采集過程中記錄直通光，使透射測試更準確，從而使**散射強度校正更準確。
另外，被測量的直通光（分辨率函數(shù)）會被整合到數(shù)據(jù)分析中來提高測量結果的質量。
Xenocs無beamstop數(shù)據(jù)采集實現(xiàn)了取決于樣品的自動qmin測量，并且消除了beamstop邊緣的寄生散射，從而在低q區(qū)域獲得高質量數(shù)據(jù)。

+ 降低宇宙背景
自動去除宇宙背景可以減少環(huán)境寄生散射的影響。

3、同時從原子級別到納米尺寸
無需重復SAXS和WAXS測試，您可以在一次曝光內(nèi)同時得到所有測量結果。
Nano-inXider獨特的智能化雙探測器設計，可以在一次曝光內(nèi)同時檢測到原子尺度信息和納米結構。設備占地面積小的垂直設計，樣品到探測器距離長，可以測量大的特征尺寸。
這些配置可以提供以下獨特的優(yōu)勢：
- 您可以在一次曝光內(nèi)獲得納米結構信息和原子尺度信息。無需重復實驗。
- 由于在SAXS和WAXS中分析的是相同體積的樣品，因此對于非均勻樣品也能獲得明確的數(shù)據(jù)。
- 在原子和納米尺度上探測樣品結構是完全同步的，這對于原位研究是必要的。

+ 雙固定探測器設計便于同時進行SAXS和WAXS測量
Nano-inXider的樣品和探測器都是固定的。可選的WAXS探測器配置擴大了散射范圍，可以無縫銜接SAXS探測器，得到的數(shù)據(jù)達到2θ=60°。
這獨特的垂直設計有以下優(yōu)勢：
- 杜絕配置選錯的可能，真正的易于操作。 
- SAXS和WAXS數(shù)據(jù)部分重疊，獲取完整q值范圍內(nèi)強度**匹配的合并數(shù)據(jù)。
- 無需校準或調(diào)整樣品到探測器距離。
- 同時對原子尺度和納米尺度結構進行了探測，可以為原位研究提供清晰的數(shù)據(jù)。

+ 虛擬探測器能夠增大各向異性樣品或纖維的方位角覆蓋
對于纖維或取向薄膜等各向異性樣品，Nano-inXider配備一個樣品旋轉臺可以獲得各向異性散射信號。自動采集包括以下步驟:
- 在連續(xù)曝光期間，樣品臺圍繞X射線旋轉
- 自動合并獲得的圖像
- 展示高方位角的2D圖譜（儀器檢測的所有q范圍，即使高達2θ=60°，方位角覆蓋都大于200°）

4、低成本
通過每天獲得的納米級信息，來加快您的材料加工流程或驗證您的研究模型。
- 高回報
- 儀器的垂直設計減少了占用的實驗室空間
- 方便技術人員操作
- 儀器的高使用率帶來了科研成果的高產(chǎn)率
- 更環(huán)保
Nano-inXider低成本的特點主要得益于它的緊湊型設計和操作成本低。

+ 緊湊型儀器
- 占地面積 < 1×1 m2
- 重量 ≈ 520 kg
- 一體化設備
- 容易安裝水平樣品

+ 操作成本低
- 平均功耗低 ≈ 700 W
- 儀器兩年質保
- 質保三年的免維護光源
- 簡潔且堅固