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研磨式超微粉碎機(jī)哪個(gè)牌子好？研磨式超微粉碎機(jī)是指采用研磨棒，通過振動(dòng)研磨的方式來粉碎的，那么哪個(gè)牌子好研磨超微粉碎機(jī)比較好呢？普萊申超微粉碎機(jī)是目前粉碎細(xì)度較高，質(zhì)量較好的一種超微粉碎機(jī)，它可以將物料粉碎到1萬目（1.3μm），同時(shí)中藥破壁率可以達(dá)到98%以上。目前普萊申超微粉碎機(jī)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于制藥行業(yè)，它具有自動(dòng)化程度高，無損耗粉碎等特點(diǎn)，因而廣泛受到各大廠家歡迎。

粉體的制備過程，特別是研磨，是一項(xiàng)既耗時(shí)又耗能的工作。因此研磨效率的高低就成了粉體制備的關(guān)鍵因素。為此，人們投入了大量的人力、財(cái)力和物力進(jìn)行研究。隨著超細(xì)粉碎技術(shù)的發(fā)展，目前，不僅有新型高效的粉碎設(shè)備如沖擊式粉碎機(jī)、攪拌磨、氣流磨、分級(jí)機(jī)等不斷研制應(yīng)用，而且還對傳統(tǒng)的研磨技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)，如調(diào)整工藝參數(shù)、選擇球磨轉(zhuǎn)速、適宜的料、球、水比等來提高研磨效率。

以下主要針對傳統(tǒng)生產(chǎn)中經(jīng)常遇到的逆研磨現(xiàn)象進(jìn)行了探討。通過合理選擇研磨條件，即加入不同的分散介質(zhì)和分散劑，觀察研磨平衡和研磨極限的變化來推遲逆研磨的出現(xiàn)，從而提高研磨效率。

逆研磨現(xiàn)象：

在粉碎過程中，人們經(jīng)常發(fā)現(xiàn)當(dāng)物料的粒度達(dá)到一定細(xì)度時(shí)，如果繼續(xù)研磨下去，就會(huì)出現(xiàn)粒度不但不會(huì)越來越細(xì)，反而越磨越粗，且這種現(xiàn)象隨著超細(xì)粉碎的進(jìn)展而越來越普遍。要深入探討這一問題，可以從微觀機(jī)械力化學(xué)基本理論角度分析:固體物料的粉碎首先主要是依靠機(jī)械作用的碰撞、研磨導(dǎo)致物料顆粒的粒度變小， 比表面積增大。但在粒度逐漸細(xì)化的過程中，如果物料得不到充分分散，那么又會(huì)在同一個(gè)機(jī)械作用(當(dāng)然還有其它作用，如范德華作用、雙電層靜電作用等)下，促使物料顆粒的團(tuán)聚，從而增大表觀粒度，減小比表面積。

因此，可以認(rèn)為超細(xì)粉碎過程到一定程度后，伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質(zhì)變，就會(huì)出現(xiàn)一個(gè)粉碎——團(tuán)聚的循環(huán)可逆過程。當(dāng)這正反兩個(gè)過程的速度相等時(shí)，便達(dá)到了粉碎過程中的動(dòng)態(tài)平衡，則顆粒尺寸達(dá)到極限值。此時(shí)，進(jìn)一步延長粉碎時(shí)間是徒勞的。因?yàn)檫@時(shí)的機(jī)械力已不足以抗衡物料更高的斷裂強(qiáng)度，只能用于維持粉碎平衡，并促進(jìn)小顆粒的重聚，于是，所謂的逆研磨現(xiàn)象就會(huì)出現(xiàn)。

為了探討逆研磨現(xiàn)象發(fā)生的機(jī)理、條件，以便控制和推遲逆研磨的發(fā)生，我們做了如下實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)室用行星球磨機(jī)，型號(hào)QM- ISP立式四筒型，瑪瑙球磨罐，研磨介質(zhì)為瑪瑙球。

實(shí)驗(yàn)方法：

將過100~ 160目篩的干燥石英粉，按表2的配比裝入4個(gè)球磨罐中(試樣編號(hào)見表2)，同時(shí)研磨。磨轉(zhuǎn)機(jī)速為150r/min，然后按一定時(shí)間依次取樣進(jìn)行測試。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果及分析：

1、實(shí)驗(yàn)結(jié)果

用偏光顯微鏡大致觀察后，采用激光粒度儀進(jìn)行測試。各試樣的中位粒徑測試結(jié)果見表3.，各試樣中位粒徑與研磨時(shí)間的關(guān)系見圖1。

2、分析

從表3及圖1的分析可看出，粉石英的超細(xì)粉碎經(jīng)歷了一個(gè)細(xì)化與團(tuán)聚的復(fù)雜過程。實(shí)驗(yàn)總結(jié)見表4。

對表4的分析結(jié)果如下:

(1)關(guān)于研磨工藝的選擇

無論干磨還是濕磨，在粗顆粒時(shí)研磨效率都很高。而在2微米以下時(shí)，研磨效率都很低。當(dāng)干磨時(shí)，進(jìn)入研磨平衡的時(shí)間和逆研磨開始的時(shí)間都相當(dāng)早。，且達(dá)到研磨極限的粒徑粗。而在有分散介質(zhì)的濕磨條件下，研磨平衡的時(shí)間推遲了至少10h，研磨極限的粒徑也比干磨時(shí)細(xì)得多。尤其是在有分散劑存在的4#試樣中，結(jié)果更為明顯。4# 試樣的逆研磨現(xiàn)象尚未發(fā)生。

(2)關(guān)于分散介質(zhì)和分散劑(表面活性劑)的作用及機(jī)理

在濕磨條件下，由于有分散介質(zhì)的存在，因而介質(zhì)的吸附作用可以有效地防止顆粒的直接接觸，從而減小顆粒間范德華力的作用。而當(dāng)研磨到一定程度后，在機(jī)械力作用下，顆粒晶體破碎而又不能完全分離時(shí)，由于晶體顆粒對水的親和力小而重新凝聚，所以2# 試樣在濕磨條件下*早開始逆研磨。

當(dāng)有分散劑加入時(shí)，分散劑可滲入晶體的裂縫，加速顆粒的細(xì)化。而已被粉碎的晶體由于分散劑的加入而保持一定的距離，不至于碰撞凝聚。分散劑既具有水的親和作用，還可防止雙電層靜電作用及熔劑化膜的大量產(chǎn)生。所以，4#試樣達(dá)到研磨平衡的時(shí)間明顯推遲且粒徑細(xì)于其他試樣。3# 試樣以酒精作為由于酒精具有懸浮及分散劑的雙重作用，所以它的研磨效率是比較高的。但它作為分散劑使研磨介質(zhì)不能撞擊到晶體本身，只能在膜上滑動(dòng)，致使研磨效率下降，故逆研磨開始時(shí)間比4#試樣早。

結(jié) 論

(1)超細(xì)粉碎是一種高能耗作業(yè)。故在生產(chǎn)中，要根據(jù)實(shí)際需要，適當(dāng)選擇粉碎設(shè)備和工藝條件，以便降低生產(chǎn)成本和能耗。當(dāng)對粉體的粒度要求很細(xì)的情況下（小于2微米），則一定要選擇濕磨。因?yàn)闈穹üに囋诔?xì)研磨時(shí)效率高，且能達(dá)到干式研磨達(dá)不到的粒度。

(2)從實(shí)驗(yàn)可見，逆研磨發(fā)生的時(shí)間、研磨平衡和極限粒徑不是**的，它隨實(shí)驗(yàn)條件的變化而變化。因而為了推遲逆研磨發(fā)生的時(shí)間和提高研磨效率，在實(shí)際生產(chǎn)中，可多做實(shí)驗(yàn)，以便找到恰當(dāng)?shù)纳a(chǎn)條件。這樣既提高了效率，又降低了生產(chǎn)成本。

( 3)分散劑(表面活性劑)在研磨過程中起著非常重要的作用，這是不言而喻的。如果被磨細(xì)的物料都能夠得到充分分散的話，團(tuán)聚就不存在，那么所謂的逆研磨，現(xiàn)象就不會(huì)發(fā)生。因而可以說，分散劑的恰當(dāng)選擇是解決逆研磨問題行之有效的途徑。